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   一、潔凈工程包含潔凈室，潔凈室的要求

潔凈室zui主要之作用在于控制產品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產品能在一個良好之環境空間中生產、制造，此空間我們稱之為潔凈室。按照慣例，無塵凈化級別主要是根據每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數量來規定。也就是說所謂無塵并非沒有一點灰塵，而是控制在一個非常微量的單位上。當然這個標準中符合灰塵標準的顆粒相對于我們常見的灰塵已經是小的微乎其微，但是對于光學構造而言，哪怕是一點點的灰塵都會產生非常大的負面影響，所以在光學構造產品的生產上，無塵是必然的要求。

每立方米將小于0.3微米粒徑的微塵數量控制在3500個以下，就達到了無塵標準的*。應用在芯片級生產加工的無塵標準對于灰塵的要求高于*，這樣的高標主要被應用在一些等級較高芯片生產上。微塵數量被嚴格控制在每立方米1000個以內，這也就是業內俗稱的1K級別。

二、潔凈室的狀態

潔凈室狀態有以下三個:

空氣潔凈室:已經建造完成并可以投入使用的潔凈室(設施)。它具備所有有關的服務和功能。但是，在設施內沒有操作人員操作的設備。

靜態潔凈室:各種功能完備、設定安裝妥當，可以按照設定使用或正在使用的潔凈室(設施)，但是設施內沒有操作人員。

動態潔凈室:處于正常使用的潔凈室，服務功能完善，有設備和人員;如果需要，可從事正常的工作。

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